尼康公布32nm量产用浸没式扫描光刻机
Nikon Corp.目前开发了一款ArF浸没式扫描光刻机,满足45nm存储器和32nm逻辑器件的批量生产要求.
NSR-S610C包含了一个数值孔径(NA)为1.3的投影透镜和尼康第四代偏振照明技术“POLANO”。另外,系统也包含了尼康专有的无缺陷浸没光刻的局部填充技术（Local Fill Technology）和双工件台,曝光台可以进行极高速扫描,校准台用来校准设备和转换的晶圆之间的误差。尼康宣称,这些结构使得整套系统产能可达到130Wafer/h以上,对准精度可达到6.5nm,甚至更高。
应用浸没式光刻的Nikon NSR-S609B是尼康公司第一台浸没光刻机于今年1月出货 。尼康认为基于同样浸没光刻技术的NSR-S610C是第一台适用于量产、具有足够工艺窗口的扫描光刻机,能够印制45nm的图形,结合POLANO技术,NA为1.3的镜头能为45nm存储器工艺提供理想的分辨率和焦深。
“S610C也是尼康创造的又一项第一。我们发售了第一个0.85数值孔径（NA）镜头,第一个0.92NA镜头,第一个超高数值孔径系统,而现在我们又将发售第一个1.30数值孔径的系统。” Geoff Wild,尼康精机（Nikon Precision Inc.）首席执行官近日宣称,“通过领先于我们的竞争对手为客户提供一流的技术,客户将获得市场份额。”
NSR-S610C光刻机将于2006年底出货。
