TFT-LCD制造工艺过程  2012/3/1

  　　薄膜晶体管液晶显示器（TFT-LCD）通常采用两个加工过程并行进行加工成成品,如图1所示。其基本工艺如下：

图1. TFT-LCD 工艺流程图
● 通过前玻璃基板/彩色滤光基板工艺过程形成精确排列的彩色滤光层。
● 薄膜基板工艺形成薄膜晶体管液晶（TFT）阵列及显示器像素控制所用其它电子元件。每个像素一般对应三个薄膜晶体管液晶（TFT）,每个像素控制一个共同构成一个像素的“色点”。薄膜形成工艺采用与半导体制造技术相类似的CVD、Etch及PVD等工艺技术。此类工艺步骤应反复数次,连续膜层方可形成一个功能元件（图2）。

图2. TFT-LCD的典型阵列工艺步骤
● 两块基板合二为一,中间注入液晶材料。
● 最后组装背光及驱动电子元件,制造出TFT-LCD 模块。
部分技术名词英文缩写
AMLCD Active Matrix Liquid
 CrystalDisplay
a-Si Amorphous Silicon
BM Black Matrix
COG  Chip on Glass
COO  Cost of Ownership
CRT  cathode-rayTube
CVD  Chemical Vapor Deposition
EL Electroluminescence
EWS Engineering Work Station
FED Field Emission Display
FPD  Flat Panel Display
HDTV  HighDefinition Television
IPS  In-Plane Switching
ITO  IndiumTinOxide
LCD  Liquid Crystal Display
LED Light Emitting Diode
MTBF  Mean Time Between Failure
MTTR  Mean Time To Repair
NTSC  National Television
 　　System Commiee
OCB  Optically Compensated Bend
PAL Phase Alternation by Line
 　　color telision
PALC  Plasma Addressed Liquid
 　　Crystal
PDP  Plasma Display Panel
 p-Si Poly crystal Silicon
PECVD  Plasma Enhanced CVD
PVD  Physical Vapor Deposition
RF Radio Frequency
RGB  Red, Green, Blue
RIE  Reactive Ion Etching
SOG Spin on Glass

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