ice:office" />2004年5月B版

新型平板显示技术,包括从非晶硅和低温多晶硅(LTPS)有源阵列LCD(AMLCD)平板显示到新出现的有机LED及其他技术在内的多项新型技术,势必将催生附加值更高的产品。不过,它们需要效率更高的测试,而相应的仪器和系统必须能提供更高的测试吞吐量和精度。

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非晶硅LCD测试

非晶硅(a-Si)是AMLCD所采用的传统技术,目前在市场份额方面它仍然占有统治地位。由于a-Si衬底技术可以用于制造更大的显示屏,故制造商们正在努力提高产量和成品率。为了节约在制造过程监控方面所花费的时间,他们现在只测试关键性的特性：Id-Vg曲线及其增/减滞后特性,电压阈值(Vth),正向(导通)电流,像素TFT漏电流(IL),开关(响应)时间,以及接触链的电阻和电容。

这些测量通过围绕在每块LCD面板外周的测试元件组(TEG)来实现。有时,也要测试一些工作像素,以检查一致性的好坏,而氧化铟/锡(ITO)的导电层特性也需要经过抽查。

LCD薄膜晶体管(TFT)的参数特性测试需要对栅、漏极在关态下的漏电流进行灵敏度极高的测量。如果阈值电压和亚阈值(漏)电流过高的话,则会出现图像鬼影,所以IL的测量能力需要达到fA水平。

典型的系统(图1)包括DC电源测量单元,开关阵列(以便通过一组仪器来实现多个器件的测量),探针台(未示出)和相应的线缆连接。由于玻璃衬底板的尺寸很大,整套设备的尺寸也偏大,其中包括与LCD TEG和工作像素相接触的探针台。这样,要让测量仪器尽可能的接近信号源